一种大范围高精度移动圆艾里光束自聚焦点的装置及方法
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摘要

本发明公开了一种大范围高精度移动圆艾里光束自聚焦点的装置及方法,该方法包括如下步骤:激光器输出的高斯光束,由起偏器起偏,经过第一透镜、第二透镜组合而成的4f系统扩束后,入射到空间光调制器,在空间光调制器上加载圆艾里光束的频谱信息,并通过平移频谱来达到对圆艾里光束自聚焦点的二维平面的操控;经过空间光调制器调制、平面反射镜反射后,再经过第三透镜傅里叶变换之后,在焦平面得到圆艾里光束,在其自聚焦位置用电荷耦合器观测到二维位移后的自聚焦点。本发明可以通过改变空间光调制器所加载不同的相息图,可精细简便地调节产生的圆艾里光束的轨迹,达到改变自聚焦点位置的目的,二维移动自聚焦点的调控范围大精度高。

基本信息
专利标题 :
一种大范围高精度移动圆艾里光束自聚焦点的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111273451A
申请号 :
CN202010091010.6
公开(公告)日 :
2020-06-12
申请日 :
2020-02-13
授权号 :
CN111273451B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
寿倩陈志超周卓弘
申请人 :
华南师范大学
申请人地址 :
广东省广州市番禺区外环西路378号华南师范大学信息光电子科技学院
代理机构 :
广州容大专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
潘素云
优先权 :
CN202010091010.6
主分类号 :
G02B27/09
IPC分类号 :
G02B27/09  G02F1/01  G02F1/13  G02F1/133  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/09
其他位置不包括的光束整形,例如改变横截面积
法律状态
2022-05-31 :
授权
2020-07-07 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/09
申请日 : 20200213
2020-06-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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