吸盘及具有其的LDI设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种吸盘及具有其的LDI设备,吸盘包括:吸盘本体、真空发生器、第一吸附件和至少一个第二吸附件,吸盘本体内设置有分隔部,以将吸盘本体内的腔室分隔成第一吸附腔和至少一个第二吸附腔;第一吸附件设置于第一吸附腔且与真空发生器相连通;至少一个第二吸附件分别设置于至少一个第二吸附腔且与第一吸附件选择性地相连通。这样,通过将第一吸附件与至少一个第二吸附件进行选择性的连接,使得真空发生器的抽取范围能够通过第一吸附件与第二吸附件的连通而进行调整,从而让吸盘对基板的吸附范围能够进行调整,使得吸盘能够根据基板的尺寸调整吸附范围,以使吸盘能够吸附夹持多种不同尺寸的基板,吸盘的使用性能得到提升。
基本信息
专利标题 :
吸盘及具有其的LDI设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122494481.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-15
授权号 :
CN216210474U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
韩艳东
申请人 :
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区长宁大道789号1号楼
代理机构 :
北京景闻知识产权代理有限公司
代理人 :
贾玉姣
优先权 :
CN202122494481.4
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20 B25B11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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