一种磁流变研磨装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种磁流变研磨装置，涉及研磨装置，旨在解决设备不使用时，空气中的灰尘往往会落到抛光盘内，影响磁流变液体质量的问题，其技术方案要点是：包括支架，支架上设有抛光盘，支架上设有呈环形设置的围挡，围挡的上端设有呈环状设置的基座，抛光盘位于基座和围挡之间，基座内开设有若干与其内沿和外沿连通的滑槽，滑槽内滑动连接有移动块，移动块包括呈扇形设置的拼合部，若干移动块上的拼合部相抵触形成用于封闭基座内沿的盖面。本实用新型通过若干拼合部相互拼合，形成遮蔽基座内沿的盖面，围挡、基座和盖面形成封闭空间，在研磨装置静置不用时，对抛光盘以及抛光盘内的磁流变液体起到防尘的效果，保持静置时磁流变液体的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种磁流变研磨装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122535054.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-19
授权号 ：
CN216731207U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
吕新宇巴翠兰江霞张进陈森军
申请人 ：
绍兴自远磨具有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市上虞区梁湖街道倪家堡村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122535054.6
主分类号 ：
B24B29/00
IPC分类号 ：
B24B29/00 B24B1/00 B24B37/34
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
