本实用新型提供一种研磨垫，特别是涉及一种具有压力传感器的研磨垫及其研磨装置。此研磨垫用于半导体或其它工件的研磨制程，其包含至少一基材、至少一压力传感器以及至少一信号传递模块，此基材包含一研磨面、一相对的底面以及至少一凹槽，且凹槽设于基材的底面，而压力传感器则设于凹槽中，用以提供一压力信号，信号传递模块则设于研磨垫，用以传递压力信号，其中此压力信号即为研磨垫一预先设定范围所受的压力值的大小以及分布状况，由此可监控研磨时机台所施加的压力，避免过度或是施力不平均的研磨造成工件磨坏，以提高研磨的品质与良率。