一种基于多晶硅单面制绒水洗风干装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种基于多晶硅单面制绒水洗风干装置，包括水洗槽，水洗槽内设有用于对硅片进行制绒后水洗的清洗单元和对清洗完成后风干的烘干单元，清洗单元包括进水管道，进水管道上设有用于带动进水管道均匀性清洗的移动部件，烘干单元包括用于对硅片进行风干干燥的风干管道，风干管道内设有感应槽，水洗槽内侧壁上设有用于对硅片的支撑单元，水洗槽能够对硅片制绒后进行水洗，清洗单元能够对硅片表面进行水洗，烘干单元能够对清洗后的硅片进行烘干，移动部件能够带动进水管道对硅片进行清洗，支撑单元能够对硅片进行支撑，旨在将硅片的水洗风干同时进行，节约了硅片处理的步骤，提高了操作人员的使用效率，实现对硅片智能化水洗风干。
基本信息
专利标题 ：
一种基于多晶硅单面制绒水洗风干装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122625376.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-29
授权号 ：
CN216213287U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
郑善存王彦强麻磊
申请人 ：
江苏中宇光伏科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省徐州市沛县经济开发区昆明路南侧
代理机构 ：
无锡三谷高智知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈勤
优先权 ：
CN202122625376.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L31/18 F26B21/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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