本实用新型提供一种真空检漏设备，包括：柔性罩体、托板、外罩、压力调节装置、检漏装置和控制器；所述柔性罩体设置在所述托板上，与所述托板共同围绕形成用于容纳工件的容置空间，当工件放入所述容置空间时，所述工件的外壁和所述容置空间的内壁之间形成检漏空间；所述压力调节装置用于调节所述检漏空间的大小；所述检漏装置包括第二真空发生装置、检漏仪和示踪气体源。本实用新型的真空检漏设备可以通过调节检漏空间的压力，管理检漏空间内的示踪气体浓度，管理工件在压差的作用下向外泄漏的速度，提升泄漏出来的检测气体的分压比从而极大的提高检测效率和精度，并可保护不能承压的工件在检测过程中不会被内外压差破坏。