一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，包括腔体，所述腔体上设置有进气口，所述腔体上设置有出气口，所述腔体的底部内壁固定连接有固定杆，所述固定杆的外侧固定套接有导流片，所述导流片与腔体的内壁接触。本实用新型通过将待加热气体通过圆筒型预热腔体后，达到了充分预热的效果，通过导流片的作用，可降低气体的流速，解决了当气体流量较大时加热效果不理想的问题，使得气体更加容易达到所需的设定温度，从而使得气体后续能够充分反应。
基本信息
专利标题 ：
一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122766401.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-11
授权号 ：
CN216337943U
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
王彤
申请人 ：
常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区凤翔路16号
代理机构 ：
北京市惠诚律师事务所
代理人 ：
周理工
优先权 ：
CN202122766401.6
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-04-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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