一种用于CVD涂层设备用的反应腔体
授权
摘要
本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域，且公开了该用于CVD涂层设备用的反应腔体，通过挂钩，方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体，更加容易移动反应室腔体，由于本装置带有散热片，降低了反应室腔体底部密封法兰环的温度，缓解了密封法兰环下部的橡胶密封圈的使用温度，正对挂钩方向，带有挂钩指示孔位，在安装反应腔体时可以准确定位反应腔体的挂钩位置，由于本装置带有带弹簧支脚的保温环，可以在加热装置给反应室腔体加热时，避免热量流失，减少能量损耗，降低用电成本，由于本实用新型装置带有清洁固定槽，在挂钩吊起反应腔体清洁时，通过夹块夹住清洁固定槽，使得反应腔体保持固定位置不动。
基本信息
专利标题 ：
一种用于CVD涂层设备用的反应腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022084873.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-21
授权号 ：
CN213232484U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
王彤
申请人 ：
常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市武进国家高新技术产业开发区凤翔路16号
代理机构 ：
上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
雍常明
优先权 ：
CN202022084873.9
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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