标志逆反射测量仪上位机
授权
摘要

本实用新型公开了标志逆反射测量仪上位机,包括防护装置以及安装于防护装置内的上位机主体,所述防护装置包括箱体以及通过铰链铰接于防护装置一侧顶端的箱盖,所述箱体内的两侧均固定安装有丝杆,两根所述丝杆上的两侧均共同活动设置有应力缓冲机构,两个所述应力缓冲机构分别抵接于上位机主体的两侧,所述应力缓冲机构包括侧边支撑板,所述侧边支撑板的一侧等距开设有多个圆孔,且多个圆孔内均活动设置有导向杆。该标志逆反射测量仪上位机,具备冲击缓冲功能,可高效的完成对于上位机的防护,还具备用空间调整功能,能够适用于不同大小的设备,并进一步的提高了对于上位机的防护性能,适用范围较大实用性较强。

基本信息
专利标题 :
标志逆反射测量仪上位机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122919430.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-25
授权号 :
CN216669700U
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
郎彦宇
申请人 :
南京昂微科技有限责任公司
申请人地址 :
江苏省南京市江宁区芝兰路18号4号楼4层409
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202122919430.1
主分类号 :
G01N21/01
IPC分类号 :
G01N21/01  G01N21/55  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2022-06-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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