本实用新型提供一种研磨设备，包括研磨平台和复数个研磨组件，研磨平台上设置有复数个研磨区域，复数个研磨组件一一对应设置于复数个研磨区域上，各研磨组件均包括移动滑轨、研磨头、修整盘和研磨液供给臂；移动滑轨和研磨液供给臂间隔设置，且均沿研磨区域的径向延伸，修整盘位于移动滑轨上，且可在移动滑轨上移动，研磨液供给臂上沿径向间隔设置有多个供液孔。本实用新型可以同时实现多个基板的抛光研磨，可以有效提高研磨平台的利用率，极大提高研磨效率，提高设备产出率；且可以有效避免研磨液落点不均一和落点偏差等问题，可以显著提高供液均匀性，使得抛光过程中的散热更加均匀，确保基板在研磨过程中保持温度均一性。