一种用于荧光成像装置的宽动态范围荧光检测模块
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于荧光成像装置的宽动态范围荧光检测模块,包括外壳,所述外壳内设激光发射通道、第一荧光检测通道、第二荧光检测通道,所述激光发射通道依次设有激光器、二向色镜,所述第一荧光检测通道依次设有光电探测器一、小孔一、荧光滤色片一、平凸透镜一、分光镜。本实用新型的荧光检测模块能够控制半导体激光器的光功率,激发被测样品的荧光信号;能够收集荧光信号,并将其分解成不同强度的两束光;能够利用两种不同灵敏度的光电探测器同时检测高、低强度的荧光信号,在一次成像过程中,将高、低信号同时成像,动态范围可达7~8 logs,在硬件成本略微提高的前提下,大大提高了试验效率,降低了试验成本。

基本信息
专利标题 :
一种用于荧光成像装置的宽动态范围荧光检测模块
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122971783.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-30
授权号 :
CN216594771U
授权日 :
2022-05-24
发明人 :
丁伟
申请人 :
北京海维尔科技发展有限公司
申请人地址 :
北京市昌平区高教园北四街7号院13号楼-1层B152
代理机构 :
北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
苏泳生
优先权 :
CN202122971783.6
主分类号 :
G01N21/64
IPC分类号 :
G01N21/64  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/62
所测试的材料在其中被激发,因之引起材料发光或入射光的波长发生变化的系统
G01N21/63
光学激发的
G01N21/64
荧光;磷光
法律状态
2022-05-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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