一种防飞溅的蒸发源
授权
摘要
本实用新型公开了一种防飞溅的蒸发源，包括支撑柱，还包括：第一坩埚阵列，包括多个坩埚3，在支撑柱1的第一侧从下至上间隔设置；第二坩埚阵列，包括多个坩埚3，在支撑柱1的第二侧从下至上间隔设置；其中，坩埚3的内部用于容纳待蒸镀材料，坩埚3的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的遮挡机构。通过坩埚的底部或者侧部可拆卸地连接有用于防止待蒸镀材料飞溅出去的遮挡机构，使得在对坩埚中的待蒸镀材料进行加热时，利用遮挡机构可以对飞溅的待蒸镀材料的液滴进行阻挡，防止坩埚里面的待蒸镀材料飞溅到其他坩埚、或者飞溅到地面、或者飞溅至从下部坩埚表面走过的薄膜上面，从而提高薄膜蒸镀的质量和成品率。
基本信息
专利标题 ：
一种防飞溅的蒸发源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123026297.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
CN216585173U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
臧世伟
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号
代理机构 ：
北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
沈煜华
优先权 ：
CN202123026297.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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