CVD设备支撑轴动密封结构及CVD设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种CVD设备支撑轴动密封结构及CVD设备,其中CVD设备支撑轴动密封结构包括:支架;水冷套,立式地安装在CVD设备的炉门下端;密封部,安装在水冷套的下端,该密封部包括自润滑密封件;其中,密封部用于坩埚支撑轴的导引密封,水冷套的套管用于坩埚支撑轴穿过而进入CVD设备的真空腔室。基于本实用新型的CVD设备支撑轴动密封结构能够有效适应CVD设备工作环境。
基本信息
专利标题 :
CVD设备支撑轴动密封结构及CVD设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123029139.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-06
授权号 :
CN216274359U
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
宋德鹏陈占领
申请人 :
山东力冠微电子装备有限公司
申请人地址 :
山东省济南市天桥区梓东大道8号中德产业园13号楼A区
代理机构 :
山东众成清泰律师事务所
代理人 :
丁修亭
优先权 :
CN202123029139.3
主分类号 :
C23C16/44
IPC分类号 :
C23C16/44 C30B11/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-04-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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