一种半导体晶圆储存盒加工专用测试装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种半导体晶圆储存盒加工专用测试装置,包括粗糙度仪本体和支架,所述支架包括底板、支撑板和放置板,所述支撑板安装在底板、支撑板相对表面的边侧之间,所述放置板背离底板的表面上设置有滚珠,所述底板的表面设置有限位板,所述底板的表面上开设有卡槽,所述底板的内表面设置有金属片,所述粗糙度仪本体的底部设置有安装板,所述安装板底部的中心位置设置有卡块;晶圆存储盒与滚珠之间的摩擦力小,便于调节晶圆存储盒的位置,将晶圆存储盒从粗糙度仪本体顶部的触针表面上滑过,粗糙度仪本体的显示屏上显示出晶圆存储盒粗糙度或者光洁度,放置板可放置不同尺寸的存储盒,便于测试存储盒的粗糙度或者光洁度。

基本信息
专利标题 :
一种半导体晶圆储存盒加工专用测试装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123073030.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
CN216348531U
授权日 :
2022-04-19
发明人 :
刘建蔚
申请人 :
昆山兴宇宏机械科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇北门路3888号昆山国际模具城模具材料区13号楼2室
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202123073030.X
主分类号 :
G01B21/30
IPC分类号 :
G01B21/30  H01L21/673  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B21/26
••用于检测轮子的准直度
G01B21/30
用于计量表面的粗糙度或不规则性
法律状态
2022-04-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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