一种光敏树脂临界曝光量和透射深度测试装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光敏树脂临界曝光量和透射深度测试装置，包括样品槽、用于使样品槽进行升降的升降机构、设置在样品槽的上方的矩阵LED紫外灯组和超声波测厚仪、设置在样品槽一侧的紫外辐照仪、以及用于使矩阵LED紫外灯组、紫外辐照仪和超声波测厚仪进行平移的平移机构，紫外辐照仪位于矩阵LED紫外灯组的下方，移动横梁的两侧分别设置有一个遮光板。本实用新型结构设计合理，自动化程度高，通过使矩阵LED紫外灯组、紫外辐照仪和超声波测厚仪同步移动，能够有效提高某一时刻光敏树脂吸收的曝光能量测量的准确性，可对与紫外波段相匹配的光敏树脂临界曝光量和透射深度进行测试，有利于不同性能光敏树脂的前期开发，适用范围广泛。
基本信息
专利标题 ：
一种光敏树脂临界曝光量和透射深度测试装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123142167.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-14
授权号 ：
CN216525472U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
宗学文刘亮晶韦毅博
申请人 ：
西安科技大学
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔中路58号
代理机构 ：
西安众星蓝图知识产权代理有限公司
代理人 ：
程彦彦
优先权 ：
CN202123142167.6
主分类号 ：
G01N21/84
IPC分类号 ：
G01N21/84 G01N33/44 G01B17/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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