一种用于等离子表面处理的喷头
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于等离子表面处理的喷头，包括喷头，所述喷头设有沟槽和喷口,所述沟槽设于所述喷头的下表面，且所述沟槽呈圆弧状，所述喷口包括上入口和下出口，所述上入口和下出口均为圆形，所述下出口位于所述沟槽的开口处，且所述下出口的直径为所述上入口直径的10％至30％。本实用新型可有效减轻喷头的重量和旋转载荷，进而减小其在旋转工作时的震动和噪音，提高表面处理的稳定性和均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于等离子表面处理的喷头
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123177348.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-16
授权号 ：
CN216459481U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
段东升段春堂
申请人 ：
深圳市泓程电子科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区大浪街道高峰社区陶吓锦华大厦603
代理机构 ：
东莞技创百科知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
邱凯
优先权 ：
CN202123177348.2
主分类号 ：
B05B1/02
IPC分类号 ：
B05B1/02 B05B3/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05B
喷射装置；雾化装置；喷嘴
B05B1/00
带或不带辅助装置，例如阀、加热装置的喷嘴、喷头或其他出口
B05B1/02
适合于产生特殊形状或性质，如单独小滴的喷流，喷雾或其他排射
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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