一种离合器片双面抛光打磨装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种离合器片双面抛光打磨装置,包括工作台、滑槽和第一插孔,所述工作台的顶部设置有前后布置的滑槽;两组所述滑槽的内部滑动安装有对称布置的滑块,两组所述滑块的顶部均安装有连接板,两组所述连接板的一侧外壁均贯穿设置有槽孔,两组所述连接板相互靠近的表面分别安装有第一打磨盘和第二打磨盘,所述第二打磨盘的截面呈“凹”字型;所述工作台的顶部贯穿设置有四组均匀布置的第一插孔。本实用新型通过安装有滑槽、滑块、连接板、槽孔、第一打磨盘和第二打磨盘,移动滑块,使其能够带动第一打磨盘和第二打磨盘的一侧表面与离合器片的两面相贴合,通过双面同时打磨,从而在一定程度上能够提高打磨的效率。

基本信息
专利标题 :
一种离合器片双面抛光打磨装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202123183338.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-12-17
授权号 :
CN216681672U
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
刘自力刘亚波向华东袁尧尧
申请人 :
重庆锐佳机械有限公司
申请人地址 :
重庆市合川区工业园区草街拓展区春江路
代理机构 :
重庆金橙专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
莫锐红
优先权 :
CN202123183338.X
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B27/00  B24B41/04  B24B55/03  B24B47/22  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-06-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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