一种气浮驱动托盘及气浮装置
授权
摘要
本申请涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种气浮驱动托盘及气浮装置，包括托盘本体，用于承托衬底并带动衬底旋转，所述托盘本体的底部为圆形，所述托盘本体底部设置有若干圆周阵列的气流槽，所述气流槽为楔形槽或直线槽，所述楔形槽两侧壁的长度不相等，所述直线槽两侧壁的深度不相等，通过将所述气流槽设置为所述楔形槽或所述直线槽，并对所述楔形槽和所述直线槽的侧壁长度和深度进行设计，使得所述气浮驱动托盘的加工成本降低，提高外延工艺的效率，有效减少了驱动所述气浮驱动托盘所需要的气流消耗量。
基本信息
专利标题 ：
一种气浮驱动托盘及气浮装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123280113.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216614932U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
王慧勇毛朝斌胡承吴彩庭
申请人 ：
季华恒一（佛山）半导体科技有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号季华实验室B1栋5层507室
代理机构 ：
佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈志超
优先权 ：
CN202123280113.6
主分类号 ：
C30B25/12
IPC分类号 ：
C30B25/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/12
衬底夹持器或基座
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
