一种简易电磁过滤的镀膜装置
授权
摘要
本实用新型提供一种简易电磁过滤的镀膜装置，属于离子镀膜技术领域，其包括具有矩形状空腔的离子镀壳体，离子镀壳体中间设有柱状旋转阴极弧源，矩形状空腔一端封闭且另一端为开口，设有开口的一端为离子出口；柱状旋转阴极弧源放电位朝向离子镀壳体封闭一端，离子镀壳体上固定有电磁线圈组；本实用新型将柱状旋转阴极弧源的放电位朝向离子镀壳体的封闭一端，使其产生的未离化的分子、原子及颗粒会沉积在离子镀壳体的封闭一端，而待沉积离子在电磁线圈的作用下偏转通过离子出口进入沉积壳体，矩形状空腔的离子镀壳体的体积大，路程短，并且直接与真空腔体相连，沉积速率将大幅度提升，且结构十分简单。
基本信息
专利标题 ：
一种简易电磁过滤的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123299979.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
CN216738505U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
张祖航郎文昌章柯张振华林琪澳
申请人 ：
温州大学;温州职业技术学院
申请人地址 ：
浙江省温州市瓯海区茶山高教园区
代理机构 ：
温州名创知识产权代理有限公司
代理人 ：
程嘉炜
优先权 ：
CN202123299979.1
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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