一种电化学抛光液循环过滤装置
授权
摘要
本实用新型公开一种电化学抛光液循环过滤装置，包括过滤槽，其包括相连接的未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽，未过滤抛光液槽的一端具有进液端口，进液端口与抛光液存储槽连接，过滤抛光液槽的一端具有出液端口，出液端口与抛光槽连接，抛光液存储槽和所述抛光槽之间也连接；过滤机构，连接于未过滤抛光液槽和过滤抛光液槽之间；循环机构设于出液端口与抛光槽之间；过滤槽、过滤机构、循环机构、抛光液存储槽和抛光槽构成循环连接。能够稳定的控制抛光液电压，进而稳定抛光电压等抛光生产工艺中的各项参数，可以除掉抛光液中的金属盐，除掉基带表面麻点，降低粗糙度值，提高了基带性能。
基本信息
专利标题 ：
一种电化学抛光液循环过滤装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123404305.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
CN216639701U
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
程泽武张全有杨坤张爱兵迮建军古宏伟蔡渊
申请人 ：
苏州新材料研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区星湖街218号生物纳米园C18楼
代理机构 ：
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 ：
范晴
优先权 ：
CN202123404305.3
主分类号 ：
C25F3/16
IPC分类号 ：
C25F3/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F3/00
电解浸蚀或抛光
C25F3/16
抛光
法律状态
2022-05-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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