一种二氧化硅磨料抛光液制备用搅拌装置及其控制方法
实质审查的生效
摘要

本发明涉及工程机械技术领域,具体涉及一种二氧化硅磨料抛光液制备用搅拌装置及其控制方法。该方法包括:获取搅拌装置在一段时间内的功率序列以及抛光液的均匀程度;根据抛光液的均匀程度以及搅拌装置的功率序列获取抛光液的评价指标,获取一段时间的评价指标构成评价指标序列;以不同重量的抛光液为样本,获取每个样本的评价指标序列以及对应的搅拌均匀时的搅拌时长,根据样本之间的样本距离将样本分为多个簇;根据待搅拌抛光液的重量为每个样本分配权重;根据每个样本的权重及其对应的搅拌时长得到预测搅拌时长,根据预测搅拌时长控制搅拌装置停机,提高了预测的准确性,从而对搅拌装置的停机时间把控的更加精准。

基本信息
专利标题 :
一种二氧化硅磨料抛光液制备用搅拌装置及其控制方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114372710A
申请号 :
CN202210026374.5
公开(公告)日 :
2022-04-19
申请日 :
2022-01-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘龙
申请人 :
深圳市川菱科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区布吉街道巨银科技工业厂区3号厂房102
代理机构 :
深圳华屹智林知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈建
优先权 :
CN202210026374.5
主分类号 :
G06Q10/06
IPC分类号 :
G06Q10/06  G06K9/62  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06Q
专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的数据处理系统或方法;其他类目不包含的专门适用于行政、商业、金融、管理、监督或预测目的的处理系统或方法
G06Q10/00
行政;管理
G06Q10/06
资源、工作流、人员或项目管理,例如组织、规划、调度或分配时间、人员或机器资源;企业规划;组织模型
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06Q 10/06
申请日 : 20220111
2022-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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