一种可扩展温度适应范围的非线性光学频率变换晶体器件
实质审查的生效
摘要

一种可扩展温度适应范围的非线性光学频率变换晶体器件,包括第一非线性光学晶体、第二非线性光学晶体和第三非线性光学晶体;所述第一非线性光学晶体和第三非线性光学晶体的材料、长度、切割角度均相同,所述第一非线性光学晶体和第三非线性光学晶体中相位失配量对温度的导数也相等;第二非线性光学晶体放置于第一非线性光学晶体和第三非线性光学晶体之间。使得非线性光学频率变换在更宽温度范围内保持较高转换效率,提高非线性光学频率变换晶体器件的温度适应性及稳定性。该器件不需要温度控制设备,使得非线性光学频率变换晶体器件结构更加简单、紧凑,同时降低器件能耗、缩短响应时间,从而降低器件成本、提升器件性能。

基本信息
专利标题 :
一种可扩展温度适应范围的非线性光学频率变换晶体器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114371584A
申请号 :
CN202210035412.3
公开(公告)日 :
2022-04-19
申请日 :
2022-01-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘恂宋平刘晓光芮挺陈姮郑南史建军刘建青杨成松王东
申请人 :
中国人民解放军陆军工程大学
申请人地址 :
江苏省南京市秦淮区后标营路88号
代理机构 :
北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
毛雨田
优先权 :
CN202210035412.3
主分类号 :
G02F1/355
IPC分类号 :
G02F1/355  G02F1/35  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/355
以所用材料为特征的
法律状态
2022-05-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/355
申请日 : 20220113
2022-04-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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