埋弧焊熔滴采集和电弧等离子体表征的装置及方法
实质审查的生效
摘要

本申请涉及埋弧焊技术领域,尤其是涉及一种埋弧焊熔滴采集和电弧等离子体表征的装置及方法,埋弧焊熔滴采集和电弧等离子体表征的装置包括平移机构、冷却构件、金属导电构件及多个光谱信号引导构件,冷却构件设置于平移机构;金属导电构件设置于冷却构件;多个光谱信号引导构件均设置于金属导电构件,且沿着金属导电构件的长度方向顺次间隔设置;光谱信号引导构件形成有传导通道。利用本装置能够采集到埋弧焊熔滴,并且由于熔滴被快速冷却,采集的熔滴处于非平衡状态,能够保留在电弧空腔中的部分特性。利用光谱信号引导构件、平移机构及光谱仪协同作用,可稳定多段采集电弧空腔中等离子体光谱信息,实现等离子体的原位光谱分析。

基本信息
专利标题 :
埋弧焊熔滴采集和电弧等离子体表征的装置及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114354282A
申请号 :
CN202210037474.8
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2022-01-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王聪王冠一王占军钟明白航宇
申请人 :
东北大学
申请人地址 :
辽宁省沈阳市和平区文化路3号巷11号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
毕翔宇
优先权 :
CN202210037474.8
主分类号 :
G01N1/20
IPC分类号 :
G01N1/20  G01N21/25  G01N21/84  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/10
液体或流体的
G01N1/20
用于流动或下落的材料
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 1/20
申请日 : 20220113
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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