一种二极管酸洗处理系统
实质审查的生效
摘要
一种二极管酸洗处理系统,包括机箱,机箱内转动设有开口向上的酸洗箱,酸洗箱的上侧连通开设有升降腔,酸洗箱的下侧开设有动力腔,动力腔的下侧壁上固设有动力电机,酸洗箱的下端面上铰接有摆动板,机箱的左右两端面上均固设有固定箱,两个固定箱内均设有能够上下滑动的滑块,通过摆动板的往复倾斜,带动位于酸洗腔内的酸液左右流动,使收集箱内的二极管能够更加快速且均匀的进行酸洗工作,降低因酸洗不均匀而造成的次品现象发生概率,通过弹簧组,防止摆动板旋转过快而导致压力传感器检测结果不精确的问题,通过压力传感器,增加生产工作中的安全性,间接提高零部件之间的使用寿命,通过滤网被吸收腔内的活性炭粉末吸收,防止泄露。
基本信息
专利标题 :
一种二极管酸洗处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114446830A
申请号 :
CN202210054636.9
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙卫红
申请人 :
孙卫红
申请人地址 :
河南省洛阳市洛龙区牡丹大道166号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202210054636.9
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67 B08B3/08 B08B13/00 F16F15/04
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20220118
申请日 : 20220118
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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