二极管生产用酸洗装置
授权
摘要
本实用新型提供二极管生产用酸洗装置，涉及酸洗设备技术领域，包括主体，在固定支架的表面开设有滑槽，滑槽内设有滑块，滑块的内部设有酸洗结构，酸洗结构内的套筒的顶端固定有酸洗电机，酸洗电机的输出端固定有升降气缸，升降气缸的输出端固定有转接头，转接头的底部设有酸洗箱，主体内隔板将主体内部分成两个区域，储存酸洗液和清洗液，滑槽内设有可以移动的滑块，滑块内设有酸洗结构，酸洗结构内的套筒顶端固定的酸洗电机可以带动套筒内的升降气缸进行旋转，而升降气缸可以实现酸洗箱的升降，这些设计使二极管在进行酸洗时可以快速转动，而且可以对二极管酸洗后残留的酸洗液进行快速清理，节省了时间，提高了二极管的酸洗效率。
基本信息
专利标题 ：
二极管生产用酸洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123310320.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-27
授权号 ：
CN216528784U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
李斌丁辉
申请人 ：
山东融创电子科技有限公司
申请人地址 ：
山东省聊城市高唐县经济开发区人和西路高速交警西500米
代理机构 ：
北京和联顺知识产权代理有限公司
代理人 ：
卢太龙
优先权 ：
CN202123310320.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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