本实用新型公开了一种半导体二极管生产用酸洗设备，涉及二极管加工技术领域，包括底座和二极管放置篮，所述底座的内部依次设有酸洗池、超声波清洗池和烘干室，所述底座的顶端固定连接有壳体，所述底座的顶端两侧均设有输送链，所述酸洗池、超声波清洗池和烘干室的顶端均设有盖板，所述盖板的顶端设有气缸，所述气缸的一端与壳体固定连接，所述气缸的活塞杆与盖板固定连接，所述壳体的内部固定连接有第一通风管道，所述盖板与第一通风管道通过弹性通风管道连通，所述底座的两端均固定连接有集气罩。该半导体二极管生产用酸洗设备，解决了现有的半导体二极管生产用酸洗设备易污染车间环境和生产效率较低的问题。