一种二极管酸洗设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种二极管酸洗设备，包括酸液箱、酸洗箱和回收池，酸液箱通过供液管与酸洗箱上部相连通，供液管上设有进液阀和进液泵，酸洗箱下部通过出液管与回收池相连通，出液管上设有排液阀，酸液箱顶部设有进酸管，酸液箱内部设有温控装置，酸洗箱内底部开设有环状滑槽，酸洗箱内下部横向设置有转动盘，转动盘底部设置有滑动块，滑动块滑动设置在环状滑槽内，酸洗箱底部设置有驱动电机，驱动电机的输出端贯穿酸洗箱底部与转动盘底部中间处相连接，转动盘上方设置有酸洗框，酸洗框底部与转动盘顶部之间设有摆动装置。其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定，并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触，提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。
基本信息
专利标题 ：
一种二极管酸洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021507831.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-27
授权号 ：
CN212874433U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
郑刚
申请人 ：
上海禾馥电子有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区川沙路151号1幢2层102室
代理机构 ：
上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
何艳娥
优先权 ：
CN202021507831.5
主分类号 ：
H01L21/306
IPC分类号 ：
H01L21/306 B08B3/08 B08B3/10
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18
器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/30
用H01L21/20至H01L21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
H01L21/302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割
H01L21/306
化学或电处理，例如电解腐蚀
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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