一种二极管酸洗装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种二极管酸洗装置，涉及二极管制造领域。该装置包括酸洗桶及酸洗桶侧壁上设有的进酸管、出酸管，所述酸洗桶内设有可升降的圆盘型酸洗板，酸洗桶顶部盖设有可分离的酸洗盖，酸洗盖直径不小于酸洗桶顶部内壁直径。本实用新型的装置用于酸洗浸泡二极管时利用酸洗盖盖住酸洗桶，减少酸雾蒸发和对人体与环境的伤害；设置加热管保证酸洗温度，桶内设搅拌装置提高酸洗效率，酸洗板沥干后通过卡接结构更换酸洗板继续进行酸洗，方便快捷。
基本信息
专利标题 ：
一种二极管酸洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921999231.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-19
授权号 ：
CN210984699U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
周健
申请人 ：
天水天嘉电子有限公司
申请人地址 ：
甘肃省天水市秦州区环城西路7号
代理机构 ：
成都弘毅天承知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋秀清
优先权 ：
CN201921999231.2
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L29/861
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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