基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置及方法
公开
摘要
本发明公开了一种基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置和方法，所述装置包括依次设置的结构光产生单元、相移及光强调制单元和成像单元，其中，结构光产生单元用于产生多束沿不同方向传播的平行光并干涉形成条纹结构光；相移及光强调制单元中的空间光调制器上能够加载不同图样以对条纹结构光同时进行方向选择和相移操作，空间掩膜板用于对条纹结构光进行滤波，使得仅保留每个方向上±1级衍射光而滤掉其它的衍射光；成像单元用于利用滤波后的条纹结构光照明样品并记录在不同条纹结构光照明下的荧光图像。本发明在保持高分辨率的情况下仍然具有高通量成像范围，克服了传统结构光照明显微镜成像通量受SLM或DMD本身像素个数限制的问题。
基本信息
专利标题 ：
基于光栅投影和SLM相移的结构光照明显微装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594588A
申请号 ：
CN202210067260.5
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2022-01-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方翔温凯郜鹏马英刘旻郑娟娟胡浩王俊玲
申请人 ：
西安电子科技大学
申请人地址 ：
陕西省西安市雁塔区太白南路2号
代理机构 ：
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王萌
优先权 ：
CN202210067260.5
主分类号 ：
G02B21/00
IPC分类号 ：
G02B21/00 G02B21/06 G02B21/18 G01N21/01 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B21/00
显微镜
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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