一种基于扭曲液晶阵列的偏振强度双模式成像系统
实质审查的生效
摘要
本发明公布了一种基于扭曲液晶阵列的偏振强度双模式成像系统,属于偏振成像及液晶器件设计领域。该系统主要包括前置镜头,微透镜阵列,双向扭曲阵列化液晶器件,均匀偏振片,中继镜头,图像传感器焦平面。所提出的双向阵列化扭曲液晶偏振器件采取了阵列化偏振调制部分与整体强度调制部分彼此分离的结构,通过插入或切出均匀偏振片,即可实现偏振成像与光强和分辨率无损失的强度成像,而无需偏振阵列与探测器像素间的反复配准。本发明通过对双向扭曲阵列化液晶层参数的优化设计,可实现线偏振成像或全偏振成像,同时具有制备低成本、工艺简单、消光比高、工作波段宽等技术优势,促进了分焦面型偏振成像系统的实际应用。
基本信息
专利标题 :
一种基于扭曲液晶阵列的偏振强度双模式成像系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114414052A
申请号 :
CN202210069634.7
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
穆全全张士元孙子珺彭增辉张杏云李大禹王启东鲁兴海宣丽
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市东南湖大路3888号
代理机构 :
长春众邦菁华知识产权代理有限公司
代理人 :
李青
优先权 :
CN202210069634.7
主分类号 :
G01J4/00
IPC分类号 :
G01J4/00 G02B26/00 G02B27/28 G02F1/133
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J4/00
测量光的偏振
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 4/00
申请日 : 20220121
申请日 : 20220121
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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