真空冷喷涂系统
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种真空冷喷涂系统,包括送粉器、连接于压缩气源的气体控制单元、连接于送粉器和气体控制单元的真空沉积室、设置于真空沉积室内的喷涂管以及连接于真空沉积室的真空排气单元。其中,气体控制单元用于调节进入真空沉积室的喷涂气体压力及流量,喷涂管用于在真空沉积室内进行真空喷涂作业,送粉器用于为真空喷涂作业提供喷涂粉末,真空排气单元用于抽取真空沉积室内真空喷涂作业后的喷涂气体,以使得真空沉积室以一定真空度维持动态真空状态,系统内喷涂用气流量和真空排气流量一致,从而使得真空冷喷涂系统在真空冷喷涂过程中始终维持真空动态平衡。

基本信息
专利标题 :
真空冷喷涂系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481114A
申请号 :
CN202210078795.2
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
卢静吴应东解路李挺孙澄川但幸东汤烈明路腾陈东
申请人 :
季华实验室
申请人地址 :
广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
代理机构 :
深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孟洁
优先权 :
CN202210078795.2
主分类号 :
C23C24/04
IPC分类号 :
C23C24/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆(熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00;固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/02
仅使用压力的
C23C24/04
颗粒的冲击或动力沉积
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 24/04
申请日 : 20220124
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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