激光共振电离质谱测试用电沉积制源装置及Sn源制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于电沉积技术领域，为解决现有的电沉积制源不能在可控微区内的铼带表面中心直接进行电沉积制源以满足LRIMS测试要求的问题，而提供了一种激光共振电离质谱测试用电沉积制源装置及Sn源制备方法。所述装置包括样品测试台架和电沉积制源仪，测试台架固定在电沉积制源仪上；能够在LRIMS测试台架的铼带表面中心3mm×0.7mm的微区内直接进行电沉积制源的装置，且基于此装置制备的Sn源与铼带衬底结合牢固，电沉积收率大于90％，显著提高了Sn在激光共振电离质谱测试过程中的原子化效率。
基本信息
专利标题 ：
激光共振电离质谱测试用电沉积制源装置及Sn源制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114481267A
申请号 ：
CN202210112497.0
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王江帆凡金龙王文亮张享波翟利华沈小攀李志明冯磊
申请人 ：
西北核技术研究所
申请人地址 ：
陕西省西安市灞桥区平峪路28号
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
赵逸宸
优先权 ：
CN202210112497.0
主分类号 ：
C25D17/00
IPC分类号 ：
C25D17/00 C25D21/02 C25D21/08 C25D5/48 C25D7/00 G01N1/28 G01N1/44 G01N27/64
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 17/00
申请日 : 20220129
申请日 : 20220129
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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