一种高稳定自阻隔量子点光学膜及其制备方法和应用
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种高稳定自阻隔量子点光学膜及其制备方法和应用，涉及量子点光学膜制备领域；其中，光学膜由两层PET基膜和夹设在两基膜间的量子点掺杂光学树脂层构成，量子点掺杂光学树脂层是由1wt％‑10wt％自阻隔量子点、60wt％‑80wt％丙烯酸类光学树脂、10wt％‑20wt％扩散粒子和1wt％‑10wt％光引发剂组成，自阻隔量子点为疏水性磷脂聚合物包覆的CdSe/Ni@CdZnSeS/Co双金属掺杂量子点；本发明先制备自阻隔量子点、随后制备量子点掺杂光学树脂、最后制备高稳定自阻隔量子点光学膜，制得的光学膜可应用于Micro‑LED、Mini‑LED、OLED、LCD或量子点显示中。本发明提供的量子点掺杂光学树脂层有极高的水氧阻隔性能，由其制备的量子点光学膜具备优异的光学性能。
基本信息
专利标题 ：
一种高稳定自阻隔量子点光学膜及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114474940A
申请号 ：
CN202210114263.X
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2022-01-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
房昊周钰明卜小海盛晓莉张贤王芬刘勇
申请人 ：
东南大学;南京贝迪新材料科技股份有限公司;南京工程学院
申请人地址 ：
江苏省南京市玄武区新街口街道四牌楼2号
代理机构 ：
南京九致知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨橘
优先权 ：
CN202210114263.X
主分类号 ：
B32B27/36
IPC分类号 ：
B32B27/36 B32B27/08 B32B27/30 C09K11/02 C09K11/88 B82Y20/00 B82Y30/00 B82Y40/00 G02F1/13357 G09F9/33
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B32
层状产品
B32B
层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
B32B27/00
实质上由合成树脂组成的层状产品
B32B27/36
由聚酯组成的
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B32B 27/36
申请日 : 20220130
申请日 : 20220130
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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