带低反射膜的基体
公开
摘要
本发明提供一种带低反射膜的基体，其特征在于，具备透明基体、形成于所述透明基体的第1主面的低反射膜以及形成于与所述第1主面相对的所述透明基体的第2主面的一部分的黑色印刷部，在所述透明基体的具有所述黑色印刷部的区域，对于来自所述低反射膜侧的入射光，所述带低反射膜的基体的光反射系数R为2％以下，且所述低反射膜的表面的光反射系数R1跟所述黑色印刷部的与所述透明基体的界面的光反射系数R2之比R1/R2为1/6以上。
基本信息
专利标题 ：
带低反射膜的基体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578461A
申请号 ：
CN202210122323.2
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2016-05-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
藤井健辅
申请人 ：
AGC株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵青
优先权 ：
CN202210122323.2
主分类号 ：
G02B1/115
IPC分类号 ：
G02B1/115 B32B7/023 G02B1/18 G02B5/02 G02B5/28
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
