低光反射元件及其制造方法
授权
摘要
一种低光反射元件，其包括导电结构、连接结构以及光散射结构。导电结构具有外表面。连接结构覆盖导电结构的外表面。光散射结构位于连接结构上。光散射结构具有多个空隙，且这些空隙的尺寸或形状基本上彼此不同。一种低光反射元件的制造方法亦被提出。
基本信息
专利标题 ：
低光反射元件及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111613129A
申请号 ：
CN202010346173.4
公开（公告）日 ：
2020-09-01
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN111613129B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
侯智元刘品妙
申请人 ：
友达光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号
代理机构 ：
北京市立康律师事务所
代理人 ：
梁挥
优先权 ：
CN202010346173.4
主分类号 ：
G09F9/00
IPC分类号 ：
G09F9/00 G02B5/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G09
教育；密码术；显示；广告；印鉴
G09F
显示；广告；标记；标签或铭牌；印鉴
G09F9/00
采用选择或组合单个部件在支架上建立信息的可变信息的指示装置（其中可变信息永久性的连接在可动支架上的入G09F11/00
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2020-09-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G09F 9/00
申请日 : 20200427
申请日 : 20200427
2020-09-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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