集成电路及其设计方法和设计装置、电子设备及存储介质
实质审查的生效
摘要

一种集成电路及其设计方法和设计装置、电子设备及存储介质,该设计方法包括:获取集成电路的初始设计方案;以及基于初始设计方案,得到集成电路的应用设计方案;在该初始设计方案中,集成电路包括第一导电部和第二导电部,第一导电部包括位于不同导电层中的多个第一子部,第二导电部包括位于不同导电层中的多个第二子部;第一导电部和第二导电部均至少通过第一相邻导电层以及第二相邻导电层;在导电层的层叠方向上,第一相邻导电层中的第一子部与第二相邻导电层中的第一子部和第二子部均交叠,第一相邻导电层中的第二子部与第二相邻导电层中的第一子部和第二子部均交叠。该设计方法有助于节省基于初始设计方案得到应用设计方案的研发成本。

基本信息
专利标题 :
集成电路及其设计方法和设计装置、电子设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114492288A
申请号 :
CN202210128751.6
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张孝珩朴相敏
申请人 :
北京奕斯伟计算技术有限公司;合肥奕斯伟集成电路有限公司
申请人地址 :
北京市经济技术开发区科创十四街99号33幢D栋2层2179号(集中办公区)
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
彭久云
优先权 :
CN202210128751.6
主分类号 :
G06F30/392
IPC分类号 :
G06F30/392  G06F30/398  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局,例如,分区或放置
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20220211
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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