基于宏透镜阵列的集成成像系统横向位置误差校正方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种基于宏透镜阵列的集成成像系统横向位置误差校正方法。还方法包括获取LCD平面上的点发出的光锥经过宏透镜阵列后在中心深度平面的汇聚点的位置以及标准汇聚点的位置;所述标准汇聚点为LCD平面上的点发出的光锥经过宏透镜阵列后在中心深度平面上均汇聚一点;根据每一汇聚点的位置与标准汇聚点的位置的距离的平均值和对应的方差度量宏透镜阵列横向位置误差,确定度量结果;判断所述度量结果是否超过阈值;若超过阈值,则测量轴向位置误差和测量宏透镜阵列横向位置误差,进而根据轴向位置误差和宏透镜阵列横向位置误差进行校正;若未超过阈值,则进行集成成像。本发明能够降低工作量,并提高集成成像的显示效果。
基本信息
专利标题 :
基于宏透镜阵列的集成成像系统横向位置误差校正方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114513654A
申请号 :
CN202210143691.5
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2022-02-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
蔺敏毛岩
申请人 :
中国人民解放军陆军装甲兵学院
申请人地址 :
北京市丰台区杜家坎21号
代理机构 :
北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司
代理人 :
王月松
优先权 :
CN202210143691.5
主分类号 :
H04N17/00
IPC分类号 :
H04N17/00 G02B3/00 G01M11/02
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H04N 17/00
申请日 : 20220217
申请日 : 20220217
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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