一种电场分布可调的低温等离子体发生装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种电场分布可调的低温等离子体发生装置，包括上接地板、可升降阵列电极、下接地板、接地板支撑机构、阵列电极固定器、阵列电极升降柱和阵列电极柔性电缆。所述的上接地板和下接地板通过接地板支撑机构连接并整体调节其间距，可升降阵列电极通过阵列电极升降柱和阵列电极固定器与上接地板相连，可升降阵列电极之间通过阵列电极柔性电缆相连。根据待加工曲面器件的面形特点，通过独立调节单个可升降阵列电极的高度，实现对曲面器件表面电场强度分布的调控，引入RF射频电源配合真空系统和工艺气体产生电场分布可调的低温等离子体。本发明相比现有Ar离子束发生装置具有加工口径大、加工效率高、对光学表面损伤小等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种电场分布可调的低温等离子体发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114521040A
申请号 ：
CN202210157226.7
公开（公告）日 ：
2022-05-20
申请日 ：
2022-02-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高国涵罗倩邵俊铭吴湘范斌杜俊峰雷柏平边疆吴时彬杨虎
申请人 ：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址 ：
四川省成都市双流350信箱
代理机构 ：
北京科迪生专利代理有限责任公司
代理人 ：
江亚平
优先权 ：
CN202210157226.7
主分类号 ：
H05H1/34
IPC分类号 ：
H05H1/34
法律状态
2022-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H05H 1/34
申请日 : 20220221
申请日 : 20220221
2022-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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