一种集成电路版图电流密度超标区域优化方法及系统
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种集成电路版图电流密度超标区域优化方法及系统,属于集成电路优化设计领域,主要包括:基于集成电路版图电流密度超标区域的精确标定,根据所述标定区域的分布规律提出两类电流密度超标区域;针对第一类超标区域,基于剖分的网格单元采用邻居扩充法在同层增大超标区域的面积,在同层可扩充的面积不够的情况下找到有多余空间的层并在该层对应位置采用单元搜索与邻居扩充法增加版图多边形面积的方法优化电路;针对第二类超标区域,采用在过孔V周围均匀布置新过孔的方法优化电路;本申请实现了集成电路版图中两类电流密度超标区域划分和所述超标区域的针对性优化。

基本信息
专利标题 :
一种集成电路版图电流密度超标区域优化方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114357941A
申请号 :
CN202210161463.0
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2022-02-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王芬
申请人 :
北京智芯仿真科技有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区农大南路1号院5号楼306室
代理机构 :
北京星通盈泰知识产权代理有限公司
代理人 :
李筱
优先权 :
CN202210161463.0
主分类号 :
G06F30/398
IPC分类号 :
G06F30/398  G06F30/392  G06F30/23  G06F115/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/398
设计验证或优化,例如:使用设计规则检查、布局与原理图或有限元方法
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/398
申请日 : 20220222
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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