一种集成电路版图电流密度超标区域标定方法及系统
授权
摘要

本申请公开了一种集成电路版图电流密度超标区域标定方法及系统,属于集成电路电磁场分析技术领域,包括:对集成电路版图进行网格剖分,采用电磁场数值计算方法,计算每层版图中网格单元的电流密度;基于每层版图中网格单元的电流密度,标识出电流密度超标的网格单元;基于标识的电流密度超标的网格单元,采用邻居搜索方法标识出连通的网格单元,形成连通的网格单元区域,同时针对每个连通的网格单元区域,设置没有邻居网格单元的网格单元对应的边作为所述连通的网格单元区域的边界。本申请解决了集成电路版图形状复杂时,传统电流密度标定方法不再有效,电流密度超标区域不能精确标定问题,有助于大规模集成电路版图优化和整改。

基本信息
专利标题 :
一种集成电路版图电流密度超标区域标定方法及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114218888A
申请号 :
CN202210161308.9
公开(公告)日 :
2022-03-22
申请日 :
2022-02-22
授权号 :
CN114218888B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
王芬
申请人 :
北京智芯仿真科技有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区农大南路1号院5号楼306室
代理机构 :
北京星通盈泰知识产权代理有限公司
代理人 :
李筱
优先权 :
CN202210161308.9
主分类号 :
G06F30/392
IPC分类号 :
G06F30/392  G06F30/23  G06F111/10  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局,例如,分区或放置
法律状态
2022-05-10 :
授权
2022-04-08 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20220222
2022-03-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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