位置标定方法和位置标定装置

授权

摘要

本发明提供了一种位置标定方法，包括获取成像系统的焦点坐标，高度传感器沿至少两个方向对所述第二标记区域分别进行至少两次高度扫描，获取每条扫描路径在所述第二标记区域内的中点坐标，获取同一方向上扫描路径中点的连线与其他同一方向上扫描路径中点的连线的交点坐标，根据所述焦点坐标、所述交点坐标以及偏移坐标，计算所述成像系统和所述高度传感器之间的相对位置坐标，无需显微镜等，降低了系统的复杂度，交点坐标的计算与第二标记区域的真实边缘相关，包含了对中心位置的算法补偿与偏移，所述交点坐标为真实位置，精确度高。本发明还提供了一种用于实现所述位置标定方法的位置标定装置。

基本信息

专利标题：

位置标定方法和位置标定装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111207671A

申请号：

CN202010145459.6

公开（公告）日：

2020-05-29

申请日：

2020-03-03

授权号：

CN111207671B

授权日：

2022-04-05

发明人：

杨朝兴

申请人：

上海御微半导体技术有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区自由贸易试验区芳春路400号1幢3层

代理机构：

上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

黄海霞

优先权：

CN202010145459.6

主分类号：

G01B11/00

IPC分类号：

G01B11/00