一种纳米结构氧化镍薄膜的制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及氧化镍薄膜领域，公开了一种纳米结构氧化镍薄膜的制备方法，包括如下步骤：步骤I：基片清洗；步骤II：基片加热，将基片放置在磁控溅射系统加热炉上，加热温度为400℃；步骤III：向真空室通入工作气体，并对溅射靶施加电压进行放电；步骤IV：沉积，沉积条件为基片温度700～800℃、氧分压0.1‑0.2Pa、放电功率100W、沉积时间3‑120min；步骤V：沉积结束后，基片冷却至室温。本发明制备出的NiO薄膜具有一定的网状纳米结构，可应用于催化和传感等领域，同时该薄膜具有较高的结晶质量，具有较低的缺陷密度，对于研究催化和传感等方面的基础物理问题具有重要意义。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米结构氧化镍薄膜的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114525472A
申请号 ：
CN202210161734.2
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2022-02-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐伟毛鑫张冰申渝
申请人 ：
重庆工商大学
申请人地址 ：
重庆市南岸区学府大道19号
代理机构 ：
重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
艾诚璐
优先权 ：
CN202210161734.2
主分类号 ：
C23C14/08
IPC分类号 ：
C23C14/08 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/08
氧化物
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/08
申请日 : 20220222
申请日 : 20220222
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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