一种确定抛物面镜与硅棱镜之间的位置的方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种确定抛物面镜与硅棱镜之间的位置的方法,包括:步骤一、选取参数已知的硅棱镜;步骤二、根据已知参数以及光路入射类型进行计算,得出能够表征抛物面镜与硅棱镜之间的位置的数值,即位置数值;位置数值包括AB,AB表示太赫兹波在硅棱镜上的入射点A到第一平面的距离,点B为垂足点,点B在第一平面上,光路入射类型为平行、聚焦或者平行聚焦中的其中一种。该方法通过设计好硅棱镜所使用的场景例如光路入射类型,并选取参数已知的硅棱镜,根据已知参数以及光路入射类型计算得出能够表征抛物面镜与硅棱镜之间的位置的数值AB,然后可以根据该数据设计太赫兹探测系统。

基本信息
专利标题 :
一种确定抛物面镜与硅棱镜之间的位置的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114545585A
申请号 :
CN202210171042.6
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘金鸽刘锋杨旻蔚王丹吴玫晓施杰
申请人 :
华太极光光电技术有限公司
申请人地址 :
上海市杨浦区军工路1436号64幢一层A137室
代理机构 :
上海申新律师事务所
代理人 :
沈栋栋
优先权 :
CN202210171042.6
主分类号 :
G02B7/18
IPC分类号 :
G02B7/18  G02B7/182  G02B27/00  G01N21/552  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B7/00
光学元件的安装、调整装置或不漏光连接
G02B7/18
用于棱镜;用于反光镜
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 7/18
申请日 : 20220223
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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