光学位置确定设备及方法

授权

摘要

本发明提供一种光学位置确定设备及方法。具体地，提供一种光刻设备，包括：框架；支撑衬底的衬底平台，该衬底在其表面上设有对准标记；驱动装置，所述驱动装置沿第一方向移动衬底平台；以及多个对准标记探测器，所述多个对准标记探测器耦合到该框架并能够沿与第一方向垂直的第二方向移动。

基本信息

专利标题：

光学位置确定设备及方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101852992A

申请号：

CN201010113451.8

公开（公告）日：

2010-10-06

申请日：

2005-10-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

C·Q·桂

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维尔德霍芬

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

王波波

优先权：

CN201010113451.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F9/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2013-01-09 ：

授权

2010-11-24 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101017282507
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2010101134518
申请日 : 20051027

2010-10-06 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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