一种光刻设备，包含支撑衬底的衬底平台，其中衬底在其表面上具有对准标记。该设备进一步包含可相对于衬底移动的框架，从而提供扫描工作模式或步进工作模式。投影系统阵列置于框架上，以将各个图形化射束投影到衬底的目标部分上。多个对准标记探测器被连接到该框架，且可使用各自的线性驱动机械装置相对该框架移动。位置传感器和每个对准标记探测器相关联，用于确定该探测器相对于该框架的位置。控制系统负责探测器在衬底上的对准标记图形上的初始定位，也负责光刻过程中该框架和衬底的动态对准。