一种用于方向图修正的平面去耦结构
公开
摘要
本发明公开了一种用于方向图修正的平面去耦结构，包括公共金属地板、位于公共金属地板顶部的介质基板、两组贴片天线和平面去耦结构，两组贴片天线对称设置在介质基板的顶部，平面去耦结构设置于介质基板的顶部，并位于两组贴片天线之间。本发明所提出的一种用于方向图修正的平面去耦结构提高了天线的阻抗匹配和隔离度，而且还提高了E面的实际增益，修正了所关心天线的H面辐射方向图。
基本信息
专利标题 ：
一种用于方向图修正的平面去耦结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114628900A
申请号 ：
CN202210198695.3
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
齐庆磊李贺王逸芳贾媚媚张胜妃
申请人 ：
南阳师范学院
申请人地址 ：
河南省南阳市卧龙区卧龙路1638号
代理机构 ：
桂林文必达专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
白洪
优先权 ：
CN202210198695.3
主分类号 ：
H01Q1/52
IPC分类号 ：
H01Q1/52 H01Q1/38 H01Q1/48 H01Q1/50 H01Q21/00
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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