用于硅片表面高度测量的数字滤波装置及方法
公开
摘要
本公开提供一种用于硅片表面高度测量的数字滤波装置及方法，装置包括：获取模块，用于获取滤波参数和/或对所述滤波参数进行设置；滤波模块，用于根据所述滤波参数对硅片表面高度的测量信号进行数字滤波，以滤除低频噪声、高频噪声以及白噪声；控制模块，用于将所述测量信号输入至所述滤波模块以及控制所述滤波模块根据滤波参数对硅片表面高度的测量信号进行数字滤波。该数字滤波装置及方法可以提高测量信号质量，使硅片表面高度测量数值更加精确。并且，可以根据不同的工作环境对滤波参数进行设置，有效提高硅片表面高度测量精度，且可扩展性强，实现成本较低。
基本信息
专利标题 ：
用于硅片表面高度测量的数字滤波装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114614796A
申请号 ：
CN202210200789.X
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
裴雨多齐月静李璟王丹武志鹏杨光华陈进新丁敏侠
申请人 ：
中国科学院微电子研究所
申请人地址 ：
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
周天宇
优先权 ：
CN202210200789.X
主分类号 ：
H03H17/06
IPC分类号 ：
H03H17/06
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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