一种掩膜版检查机检查区域坐标设置方法
公开
摘要
本发明涉及掩膜版检查机，具体涉及一种掩膜版检查机检查区域坐标设置方法，获取待检查掩膜版需要设置图形点位的坐标信息，并对图形点位中参考点的坐标信息进行处理；待检查掩膜版进入掩膜版检查机后，寻找设置的参考点，并记录相应的实际点位坐标信息；根据参考点的坐标信息与相应的实际点位坐标信息计算补偿值，基于补偿值计算所有图形点位的实际点位坐标信息；将所有图形点位的实际点位坐标信息录入掩膜版检查机；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的掩膜版的寻点设置需要耗费大量时间的缺陷。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜版检查机检查区域坐标设置方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563916A
申请号 ：
CN202210205006.7
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王亚腾熊启龙
申请人 ：
合肥清溢光电有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区谷河路与通淮路交口东北角
代理机构 ：
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 ：
夏舜
优先权 ：
CN202210205006.7
主分类号 ：
G03F1/84
IPC分类号 ：
G03F1/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺，例如清洗
G03F1/84
检查
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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