一种纯无机铅卤钙钛矿吸收层及其制备方法和应用
实质审查的生效
摘要
本发明涉及半导体材料技术领域，公开涉及一种纯无机铅卤钙钛矿的X射线探测器及其制备方法和应用，制备方法包括将涂有SnO2中间层的导电衬底置于双温区管式炉的低温区，将前驱体粉末置于双温区管式炉高温区作为蒸发源；石英管抽真空后，将所述低温区和高温区分别升温至100～300℃和550～660℃，通入载气，保温20～40min，在SnO2中间层上形成钙钛矿膜，得到所述纯无机铅卤钙钛矿吸收层。该吸收层中钙钛矿层形貌良好，平整性高，稳定性好，制备的器件X射线灵敏度高，同时具有较好的稳定性和很低的暗电流，适用于X射线探测及成像应用。
基本信息
专利标题 ：
一种纯无机铅卤钙钛矿吸收层及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540771A
申请号 ：
CN202210209236.0
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-03-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
方彦俊李力奇杨德仁
申请人 ：
浙江大学
申请人地址 ：
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 ：
杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人 ：
何秋霞
优先权 ：
CN202210209236.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/02 C23C14/06 C23C14/54 G01T1/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220304
申请日 : 20220304
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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