本发明提供了一种激光退火均匀性的验证方法，其通过半导体衬底、热隔离膜和金属膜堆叠而成的验证结构，在相应的激光退火条件下对验证结构进行激光退火，至少部分金属膜在该激光退火过程中被热熔化，由此使得验证结构在退火前后的表面形貌发生变化，进而可以通过观察和分析验证结构在退火后的表面形貌，来直观地判断该激光退火的均匀性，方法简单，易于实施，且不需要在退火后通过验证器件的电学特性，来验证激光退火的均匀性，因此缩短了验证周期，并降低了验证成本。